利用湿式蚀刻工艺提高LED光萃取效率之产能与良率的方法
日期:2012-09-28 09:20
后之残留物问题,也可应用高温磷酸蚀刻技术来解决此问题,因为使用雷射切割LED芯片后,会将基材烧出一道痕迹,因此在芯片边缘会流下焦黑的切割痕迹,这种切割残留物会影响LED亮度达5~10%,如图11所示为雷射切割LED芯片后之SEM照片。对于现今HB-LED对于亮度锱铢必较之情形,亦有业界于雷射切割后,接着使用高温磷酸来进行蓝宝石基板的侧边蚀刻(Sapphire Sidewall Etching; SSE),以去除雷射切割后的焦黑残留物,进而增进HB-LED的发光效率。



图11、雷射切割LED芯片后之SEM照片。

高温磷酸湿式蚀刻工艺设备在制作上,必须考虑的
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