利用湿式蚀刻工艺提高LED光萃取效率之产能与良率的方法
日期:2012-09-28 09:20
净度。

II.高产能设计:一次可上货达200片外延片,产能为一般设备的2.75倍。

III.多槽体设计:具备多组磷酸槽,当1组磷酸槽作工艺蚀刻时,另外1组磷酸槽可同步进行化学品更换与加热,如此可防止因等待化学品更换或加热所造成的时间浪费。

IV.加热与温度控制:在石英槽体外围镀上一层薄膜加热层,此种加热方式可以使得温度均匀分布于整个槽体,防止因温度梯度所造成芯片的局部热应力,以及蚀刻速率之变异,目前高温磷酸湿式化学蚀刻蓝宝石基板的厚度可精确控制在1.90.1m,蚀刻速率为每秒27.5 0.5 A。

V.N降温度之速率控制
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