日期:2012-09-28 09:20
ewall Etching; SSE），以及基板背面粗糙化（Sapphire Backside Roughing; SBR）。本文将探讨如何利用高温磷酸湿式化学蚀刻技术，来达到增加LED光萃取效率之目的。此外，针对LED生产线之高产能与高良率需求时，在工艺系统设计制作上必须考虑到哪些因数，亦将进行详细探讨，以期达到增加LED光萃取效率之目的。
图1、从主动区所发射的光线在到达半导体与周围空气之界面时，如果光的入射角大于临界角（c）时，则会产生全内反射。
磊晶前蓝宝石基板之蚀刻图形化（PPS）工艺
蓝宝石基板蚀刻图形化（PPS）可以有效增加光的萃取效