日期:2012-08-17 13:44
提升出光效率、降低生产消耗是LED芯片生产线关注焦点，在国产ICP刻蚀设备获得巨大市场成功之后，基于集成电路领域先进PVD技术的积累，北方微电子于2012年推出iTopsITOsputter-透明电极溅射沉积设备，为芯片生产线提供高质量的ITO薄膜沉积工艺，提升LED芯片出光效率。
与传统蒸镀工艺相比，北方微电子的磁控溅射设备可以将芯片的输出光效提升5%-10%，靶材的高利用率更可大幅降低生产中的材料消耗。
该系统兼容2-4英寸蓝宝石、碳化硅等多种材料基片，具备极强的技术扩展能力。设备舒适便捷的人机交互界面，优异的可靠性、稳定性与重